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Company Profile
科民电子研发的粉末镀膜设备为三腔结构，真空腔体内部放置一个粉末镀膜反应腔，粉末镀膜反应腔内部包含有最多4个独立的样品仓，可一次沉积4种不同的粉末品。采用精密的反应气场控制，可以同时在四种不同纳米粉末上均匀生长薄膜材料;ALD反应所需的前驱体源通过两个独立的进气通道进入粉末镀膜反应腔，在经过样品仓后通出。避免了CVD反应，气流带动粉末在样品仓内进行轻微运动，使ALD反应能在粉末表面顺利进行。